硅片清洗剂

Posted: 2019-12-26

硅片清洗剂配方
A组分   液体(抗疲劳清洗,去除铜离子、提高双氧水效率)
喜赫FMEE  5%
喜赫FMES  5%
TX-10         5%
异丙醇       5%
喜赫EDDHA-Na    5%
纯水                75%

B组分  固体   25kg每袋 (去除氧化硅,稳定碱性)
氢氧化钠    30%
氢氧化钾    30%
纯碱            40%
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